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CRF plasma 等離子清洗機

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常壓等離子處理機

CRF-APO-RP1020-D

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產品和處理環境；

可ln-Line式安裝于客戶設備產線中，減少客戶投入成本；

使用壽命長，保養維修成本低，便于客戶成本控制；

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設備詳細數據
       等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后，能提升材料表層的濕潤性，使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作，提高粘結力和鍵合能力，另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性，接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵，使其具備優良的使用性能。

       等離子清洗設備采用高精密的數控加工技術，具備高精密的全自動清洗機械裝置，時間控制度高；等離子體的恰當清理不會對其表層造成損害，產品的工藝性能獲得確保；它是一種綠色環保的清洗加工工藝，不會造成環境污染，防止了人為失誤的危害，清理表層不會受到二次污染。

深圳誠峰智造等離子清洗機

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