誠峰智造的四類等離子體表面處理儀都有哪些不同點：
1、crf真空等離子體表面處理儀技術：
這類等離子體是在全封閉真空過程中產生的(10-3到10-9bar)。相對于常壓情況，單位體積內的粒子數更少，從而增加了粒子自由程長度，相對減少了碰撞過程。最終是，等離子體能量衰減的趨勢減弱，并能在空間中更廣泛地傳播。為了制造真空腔，需要使用強大的氣泵。真空等離子技術沒有聯動連接功能。

2、高電壓等離子體表面處理儀技術：
高電壓等離子體是由專用氣體放電管產生。這類等離子體在表面處理中并不重要。
3、電暈處理技術：
電暈處理技術是一種采用高壓的物理方法，主要用于薄膜處理。電暈預處理的缺點是，其表面活化能力較低，處理后表面效果有時不夠均勻。還可以對膜的反面進行處理，有時根據工藝要求可以避免。另外，經電暈處理后獲得的表面張力不能長期保持穩定，處理后的產品往往只能存放有限的時間。
4、常壓等離子體表面處理儀技術：
常壓等離子處理機技術是在大氣壓條件下產生的等離子體，常壓型等離子體處理技術成本低，性能優良，可作為真空等離子體和電暈等離子體的工藝替代和工藝改進，得到廣泛應用。常壓型等離子體技術的一大優點是其聯機綜合性能，該技術可以平穩地集成到現有的生產系統中，作為工藝準則。